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Product Center研究型偏光顯微鏡 XPV-400一、儀器的用途: XPV-400型透反射偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金等部門和相關高等院校Z常用的專業實驗儀器。可供廣大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺等附件,如:化工的化學纖維,半導體工業以及藥品檢驗。
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一、儀器的用途:
XPV-400型透反射偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金等部門和相關高等院校常用的專業實驗儀器。可供廣大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺等附件,如:化工的化學纖維,半導體工業以及藥品檢驗。
二、技術參數
1.目鏡
類 型 | 放大倍數 | 視場(mm) |
平場目鏡 | 10X | φ22 |
2.物鏡
類 型 | 放大倍數 | 數值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
平場消色差物鏡 | 5X | 0.1 | 7.18 |
10X | 0.25 | 4.70 | |
40X | 0.65 | 0.72 | |
60X | 0.85 | 0.18 |
研究型偏光顯微鏡 XPV-400
3.放大倍數:40X 100X 400X 600X 系統放大倍數:40X-2600X
4.聚光鏡數值孔徑:NA1.2/0.22 搖出式消色差聚光鏡,中心可調
5.起偏鏡:振動方向360°可調,帶鎖緊裝置,可移動光路
6.檢偏鏡:可移出光路,旋轉范圍90°,內置勃氏鏡,中心可調
7.補償器:λ片(Ф18mm,一級紅,光程差551nm)、λ/4片(Ф18mm, 光程差147.3nm) 石英楔子(12x28mm,Ⅰ-Ⅳ
8.調焦系統:帶限位和調節松緊裝置的同軸粗微動,微動格值 0.002m
9.電光源:6V/20W 鹵素燈(亮度可調)
10.防霉:*的防霉系統
三、儀器特點:
透反射偏光顯微鏡系統是采用無限遠光學系統及模塊化功能設計,配置無窮遠無應力長工作距離平場物鏡,將精密的光學顯微鏡技術、的光電轉換技術、*的計算機圖像處理技術*地結合在一起而開發研制成功的一項高科技產品。可以顯示屏上很方便地觀察實時動態圖像,并能將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。
四、系統組成
電腦型透反射偏光顯微鏡(XPV-400E):1、偏光顯微鏡 2、適配鏡 3、攝像器(300萬) 4、圖像采集及處理軟件 5、測量軟件 6、數據線 7、計算機(選購)
數碼型透反射偏光顯微鏡(XPV-400D):1、偏光顯微鏡 2、適配鏡 3、數碼相機
五、選購件
1、高像素成像器:500萬或900萬像素成像器 2.偏光測量軟件或偏光分析軟件